中心議題：

• 圍繞蜂窩發(fā)射模塊討論有效的RF屏蔽方法

解決方案：

• 3G手機(jī)射頻屏蔽方案
• 采用RF3178 TxM對輻射進(jìn)行測試

蜂窩發(fā)射模塊對手機(jī)內(nèi)的任何元件來說都將產(chǎn)生最大的輻射功率，從而可能誘發(fā)EMI和RFI.類似這樣的問題可以采用RF屏蔽技術(shù)來降低與EMI及射頻干擾（RFI）相關(guān)的輻射，并可將對外部磁場的敏感度降至最低。那么，什么樣的屏蔽設(shè)計(jì)方法具有最佳效率呢？這個(gè)由三部分組成的系列文章圍繞當(dāng)今蜂窩發(fā)射模塊來討論有效的RF屏蔽方法。　

近年來，手機(jī)在形態(tài)、功能、性能和成本方面都發(fā)生了巨大變化。不斷演進(jìn)的新技術(shù)催生出更小、更高能效和高度集成的半導(dǎo)體器件，從而不斷孕育出集成度更高的便攜（移動）手機(jī)產(chǎn)品。運(yùn)營商在提供額外的諸如短信服務(wù)（SMS）、多媒體（MMS）和GPS等服務(wù)，而制造商為移動蜂窩手機(jī)增加了諸如FM射頻等輔助無線功能、以及MP3播放機(jī)和數(shù)碼照相機(jī)等其它功能。實(shí)現(xiàn)全部這些特性所要求的外形和體積對手機(jī)設(shè)計(jì)師和硬件工程師提出了相當(dāng)挑戰(zhàn)。　　

因此，工作在印刷線路板（PCB）級的手機(jī)設(shè)計(jì)師遭遇到諸如集成器件間的耦合、線耦合和交叉干擾等不期望發(fā)生的核心問題。而所有這些問題又導(dǎo)致了更多的設(shè)計(jì)返工、手機(jī)外形間缺少通用性以及被延長的設(shè)計(jì)周期，而上述這些又都增加了手機(jī)開發(fā)成本。在當(dāng)今競爭激烈的市場壓力條件下，這些因素對移動手機(jī)制造商和研制它們的設(shè)計(jì)師的成功來說，發(fā)揮著關(guān)鍵作用。　　

在手機(jī)設(shè)計(jì)早期就確認(rèn)可有助于解決這些核心問題的一個(gè)領(lǐng)域是廣為采用的屏蔽。屏蔽減小了電磁干擾（EMI）和射頻干擾（RFI）、極大削弱了不希望的輻射、緩解了它引發(fā)的災(zāi)難。目前，屏蔽與RF頻率如影隨形，因全部RF通信標(biāo)準(zhǔn)都有某種要求把不期望輻射最小化的規(guī)定。　　

屏蔽的效能由它在一個(gè)寬的頻譜范圍內(nèi)，能多大程度上衰減輻射信號來表征。例如，一個(gè)帶活動蓋的金屬“容器”可構(gòu)成一個(gè)屏蔽，或容器本身可直接固焊在PCB上。采用蓋結(jié)構(gòu)對調(diào)節(jié)很有用，所以常被用在電視調(diào)諧器等應(yīng)用，但該屏蔽的效能高度依賴蓋和容器間的電氣連接。它以RF屏蔽所根據(jù)的基本概念為基礎(chǔ)：時(shí)變電磁場（EM）會在導(dǎo)體內(nèi)環(huán)繞場線感應(yīng)出電流。所以，完美導(dǎo)體內(nèi)的感應(yīng)電流會產(chǎn)生一個(gè)與誘發(fā)場相反的EM場，從而使導(dǎo)體內(nèi)的場線抵消。因此，屏蔽上過多的孔洞、槽溝和開口會降低屏蔽效能，這是因感應(yīng)電流只能在導(dǎo)體上存在自由電子的部位流動。導(dǎo)體（容器）上的開口意味著該處沒有自由電子，它會導(dǎo)致電流尋找沿著開口處的其它途徑流動，從而使感應(yīng)場無法完全抵消誘發(fā)場。表皮深度是另一個(gè)重要因素，它由EM波穿透傳導(dǎo)膜的能力決定。特別是當(dāng)?shù)皖l具有特別重要性時(shí)，為有效屏蔽輻射的RF信號，會需要一個(gè)更厚的膜。　　

本討論中，與屏蔽相關(guān)的重點(diǎn)將圍繞當(dāng)今手機(jī)設(shè)計(jì)中一個(gè)通用的RF半導(dǎo)體元件——蜂窩發(fā)射模塊（TxM）展開。簡言之，TxM是由在一種類似PCB的基板上固放上裸片和無源器件構(gòu)成的。然后將該組件進(jìn)行包注模（overmolded）處理，之后它就可被固焊在手機(jī)PCB上。因它對手機(jī)內(nèi)的任何元件來說都產(chǎn)生最大的輻射功率，進(jìn)而極有可能誘發(fā)EMI和RFI，所以該例子特別有用。另外，整體上，TxM與矩形波導(dǎo)的尺度類似，根據(jù)Pozar[1]，矩形波導(dǎo)的截至頻率為：

其中，“m”和“n”代表模式，“μ”和“e”分別代表滲透率和介電常數(shù)，等式1表示：若尺寸“a”大于“b”，則主導(dǎo)模式是TE10.因此，等式1重寫為：
　　
其中：“c”是光速：“E1”代表相對介電常數(shù)：“μr”是相對滲透率：“a”是開口。　　

等式2指出，如我們預(yù)期的，截至頻率隨開口“a”尺寸的縮小而增加。當(dāng)屏蔽上有若干開口時(shí)，方程式會變得更復(fù)雜，從而進(jìn)一步強(qiáng)調(diào)了完全沒有開口的重要性?！　?br />
金屬屏蔽容器繼續(xù)被用來從外部對TxM和手機(jī)的RF部分實(shí)施屏蔽；但最近有一種在TxM內(nèi)部進(jìn)行嵌入式屏蔽的趨勢。僅就TxM屏蔽來說，已開發(fā)出若干對TxM進(jìn)行屏蔽的方法。方法之一是采用一個(gè)簡單金屬容器構(gòu)成的嵌入式屏蔽，但該方法要求在容器上開多個(gè)孔以允許注模填料（mold compound）容易地流灌整個(gè)模塊，這是模塊化組裝所必需的。但根據(jù)本文前述的波導(dǎo)理論，屏蔽效能不僅與屏蔽上開口尺寸也與開口數(shù)有關(guān)，開孔越大、數(shù)越多則效能降低得越厲害?！　?br />
RFMD開發(fā)出一種已申請了專利的MicroShield集成RF屏蔽替代技術(shù)。該集成屏蔽把在一個(gè)封裝好的半導(dǎo)體注模填料的外部再包裹上一層薄金屬作為整個(gè)組裝工藝的最后步驟。采用這種技術(shù)實(shí)現(xiàn)的屏蔽對模組高度的影響微乎其微且在降低EMI和RFI輻射的生產(chǎn)中可重復(fù)進(jìn)行。
為確證MicroShield技術(shù)的超卓能效，在一個(gè)測試載體上，采用RF3178 TxM對輻射進(jìn)行了測試（圖1）?！　?br />  

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測試結(jié)果清楚表明，兩種屏蔽技術(shù)在性能上差別顯著：MicroShield明顯優(yōu)于嵌入式屏蔽技術(shù)。平均看，在輻射衰減方面，MicroShield集成RF屏蔽技術(shù)比嵌入式技術(shù)優(yōu)于15dB.　　

但作為TxM設(shè)計(jì)師來說，取得這些結(jié)果并非唾手可得之事。從TxM設(shè)計(jì)角度看，添加屏蔽給設(shè)計(jì)師帶來若干問題。首先，緊挨著的屏蔽和電磁輻射電路改變了頻率響應(yīng)，其頻響不再與“素顏（未模封）”、完全調(diào)整好的TxM一致，從而改變了屏蔽后電路的性能。特別是在更高頻率可更好地觀察到這些效應(yīng)。這樣，當(dāng)增加屏蔽時(shí)，建模和EM模擬對確保好結(jié)果具有極其重要的意義?！　?br />
因3D EM模擬會很耗時(shí)，所以根據(jù)電路的復(fù)雜性以及需提供足夠精度的四面體元件的數(shù)量，先從一個(gè)不太復(fù)雜的電路著手并確認(rèn)其具有重要性的關(guān)鍵部分的作法就功不唐捐了。例如，根據(jù)場論不難得出：兩條載場信號線挨得越近，就越趨向于產(chǎn)生更大耦合。這些信號線載負(fù)著時(shí)變電荷，這些電荷業(yè)已嵌入在基板內(nèi)并被諸如地平面等金屬裹覆起來，所以，當(dāng)施加外屏蔽時(shí)，實(shí)質(zhì)上不會在場線上表現(xiàn)出額外干擾。只有信號線、元件或線綁定才在其各自場線面臨顯著變化，因這些元素暴露在空氣中或被包注模以作為邊界條件。　　
 

圖2顯示的是具有包注模TxM的功放部分的輸出匹配，它有兩種情況：不帶屏蔽以及在包注模上施加屏蔽。該雙端口模擬是采用Ansoft的3D EM軟件工具HFSS實(shí)現(xiàn)的?！　?br />
輸出匹配雖然僅表示整個(gè)TxM內(nèi)無源電路的一小部分，但在確定耦合機(jī)理和高階諧波影響方面仍有效用?！　?br />
第二個(gè)關(guān)注的地方是微帶線附近的場線，在靠近地平面的地方它們最強(qiáng)。只要屏蔽和地平面間的距離明顯大于微帶線和地平面間的距離，則增加的屏蔽的效用就微乎其微。線綁定和表貼電感與地平面的直接耦合要弱些，當(dāng)施加屏蔽時(shí)，預(yù)期其場線會有變化。圖3顯示的是3D模擬的E場分布。